Таким чином, в дисертації була досягнута мета роботи, яка полягала у виявленні фізичних закономірностей, необхідних для побудови адекватної фізичної картини запалення, режимів горіння і структури тліючого розряду постійного струму низького тиску в системах, типових для плазмових технологій. При проведенні досліджень було отримано ряд нових результатів, які представляють інтерес з точки зору фізики газового розряду, а також можуть бути використані для подальшого вдосконалення плазмового технологічного обладнання на базі тліючого розряду постійного струму, а саме: Експериментально встановлений модифікований закон пробою газу в однорідному постійному електричному полі Udc = f (pL, L/R) має велике значення для подальших теоретичних і експериментальних досліджень як тліючого розряду постійного струму, так і комбінованих розрядів, а також для розробки технологічних втілень пристроїв. Більш поглиблений опис двопараметричної залежності характеристик розряду (як від pL, так і від L/R) виводить на більш високий рівень конструювання технологічних установок, що використовують тліючий розряд постійного струму. Виявлений факт, що в мінімумі кривих запалення тліючого розряду постійного струму при довільних значеннях відстані між електродами L, радіуса розрядної камери R та коефіцієнта іон-електронної емісії поверхні катода g величина відношення (Edc/p)min є сталою, дозволяє уточнити модель, яка використовується для розрахунку як геометрії елементу плазмової дисплейної панелі, так і значень опорної та керуючої напруг. Отримані формули для перерахунку кривих запалення тліючого розряду постійного струму можуть бути вельми корисними при моделюванні та розробці різних промислових пристроїв на базі тліючого розряду постійного струму. Встановлений факт зв'язку між нормальним режимом горіння тліючого розряду постійного струму і наявністю іонізації в анодному шарі є важливим для розуміння явища нормальної густини струму і може допомогти в побудові теоретичної моделі цього явища. Це знання може бути корисним при виборі оптимального режиму роботи різних плазмових реакторів, в яких використовується даний тип розряду. |